Pracownicy laboratorium:
Mikroskop elektronowy Dual Beam HELIOS NanoLab 600
Dwuwiązkowy mikroskop SEM/Ga-FIB firmy FEI umożliwia w jednym urządzeniu wykorzystanie wiązki elektronów i jonów.
Kolumna SEM (scanning electron microscope) służy do obrazowania w wysokiej rozdzielczości, a kolumna FIB (focus ion beam) umożliwia obróbkę powierzchni próbki.
Dodatkowe wyposażenie:
- zestaw do litografii elektronowej RAITH ELPHY Quantum 6MHz
- system EDX (Energy dispersive X-ray) – umożliwia analizę składu chemicznego próbki.
Możliwe wykorzystanie mikroskopu:
- ultrawysokorozdzielcze obrazowanie powierzchni preparatu
- tworzenie i analiza przekrojów w nano- i mikroskali
- możliwość charakteryzacji szerokiego spektrum preparatów przewodzących i nieprzewodzących
- trawienie powierzchni
- nanoszenie warstw
- preparatyka wysokiej jakości próbek dla transmisyjnej mikroskopii elektronowej (TEM)
- wytwarzanie nanostruktur za pomocą zestawu do litografii elektronowej.
The FEI dual beam SEM/Ga-FIB microscope is a instrument that combines the power of electron beams and ion beams within a single device.
The scanning electron microscope (SEM) column is used for high-resolution imaging, while the focus ion beam (FIB) column allows the surface of the sample to be treated.
Additional equipment:
- electron lithography RAITH ELPHY Quantum 6MHz
- system EDX (Energy dispersive X-ray) – enables chemical analysis of the sample.
APPLICATIONS
- The ultra-high-resolution imaging of surface preparation.
- Creation and analysis cross-sections in nano- and microscale.
- The ability to characterize a wide range of formulations of conductive and non-conductive.
- Etching
- Metal and other materials deposition.
- Preparation of high-quality TEM samples.
- Fabrication of nanostructures using electron lithography.